-
1 ion beam etching
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > ion beam etching
-
2 ion beam etching
Ионно-лучевое травление (ИЛТ)Процесс удаления вещества с поверхности твердого тела, осуществляемый его бомбардировкой пучками ионов инертных газов. Реактивное ИЛТ (РИЛТ) - удаление материала за счет химического взаимодействия ионов соединений с обрабатываемым материалом, в результате чего образуются летучие соединения, откачиваемые вакуумной системой. -
3 ion beam etching
Ионно-лучевое травление (ИЛТ)Процесс удаления вещества с поверхности твердого тела, осуществляемый его бомбардировкой пучками ионов инертных газов. Реактивное ИЛТ (РИЛТ) - удаление материала за счет химического взаимодействия ионов соединений с обрабатываемым материалом, в результате чего образуются летучие соединения, откачиваемые вакуумной системой.Russian-English dictionary of Nanotechnology > ion beam etching
-
4 ion beam etching
<ic.prod> ■ Ionenstrahlätzen n ; Ion Beam Milling n -
5 ion-beam etching
English-Russian big polytechnic dictionary > ion-beam etching
-
6 ion beam etching
The English-Russian dictionary general scientific > ion beam etching
-
7 ion-beam etching
dry etching — «сухое» травление
The English-Russian dictionary general scientific > ion-beam etching
-
8 ion(-beam) etching
Англо-русский словарь технических терминов > ion(-beam) etching
-
9 ion(-beam) etching
Англо-русский словарь технических терминов > ion(-beam) etching
-
10 ion beam etching
Биология: ионное травление, травление в ионном луче -
11 ion-beam etching
Техника: ионно-лучевое травление, ионное травление -
12 Ion Beam Etching
Electronics: IBE -
13 ion-beam etching
Engineering: IBE -
14 ion beam etching
-
15 ion-beam etching
-
16 ion - beam etching
-
17 ion-beam etching
-
18 ion-beam etching
English-Russian dictionary on household appliances > ion-beam etching
-
19 ion-beam etching
English-Russian dictionary of microelectronics > ion-beam etching
-
20 ion beam etching
Англо-русский словарь промышленной и научной лексики > ion beam etching
См. также в других словарях:
ion beam etching — Ion Beam Etching Ионно лучевое травление (ИЛТ) Процесс удаления вещества с поверхности твердого тела, осуществляемый его бомбардировкой пучками ионов инертных газов. Реактивное ИЛТ (РИЛТ) удаление материала за счет химического взаимодействия… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.
ion-beam etching — jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam etching; ion beam milling vok. Ionenstrahlätzen, n rus. ионно лучевое травление, n; ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam etching — reaktyvusis jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam etching vok. reaktives Ionenstrahlätzen, n rus. реактивное ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Ion beam — An ion beam is a type of particle beam consisting of ions. Ion beams have many uses in electronics manufacturing (principally ion implantation) and other industries. Today s ion beam sources are typically derived from the mercury vapor thrusters… … Wikipedia
ion-beam milling — jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam etching; ion beam milling vok. Ionenstrahlätzen, n rus. ионно лучевое травление, n; ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Ion-beam sculpting — Ion Beam scultping is a term used to describe a two step process to make solid state nanopores. The term itself was coined by Golovchenko and co workers at Harvard in the paper Ion beam sculpting at nanometer length scales [J. Li, D. Stein, C.… … Wikipedia
Gas cluster ion beam — Gas Cluster Ion Beams (GCIB) is a new technology for nano scale modification of surfaces. It can smooth a wide variety of surface material types to within an angstrom of roughness without subsurface damage. It is also used to chemically alter… … Wikipedia
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Electron beam induced deposition — (EBID) is a process of decomposing gaseous molecules by electron beam leading to deposition of non volatile fragments onto a nearby substrate. Process Focused electron beam of scanning electron microscope (SEM) or scanning transmission electron… … Wikipedia
Electron beam physical vapor deposition — or EBPVD is a form of physical vapor deposition in which a target anode is bombarded with an electron beam given off by a charged tungsten filament under high vacuum. The electron beam causes atoms from the target to transform into the gaseous… … Wikipedia
ионно-лучевое травление — Ion Beam Etching Ионно лучевое травление (ИЛТ) Процесс удаления вещества с поверхности твердого тела, осуществляемый его бомбардировкой пучками ионов инертных газов. Реактивное ИЛТ (РИЛТ) удаление материала за счет химического взаимодействия… … Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.